सोलापूर : पुण्यश्‍लोक अहिल्यादेवी होळकर सोलापूर विद्यापीठातील (punyashlok ahilyadevi holkar solapur university) भौतिकशास्त्र संकुलातील फंक्‍शल मटेरियल्स लॅबरोटरी व इनक्‍युबेशन सेंटरच्या माध्यमातून कोरोनापासून संरक्षणासाठी विशेष मास्कची (Mask) निर्मिती करण्यात आली आहे. त्याची माहिती भारत सरकारच्या पेटंट (Patent) कार्यालयाच्या नियतकालिकेत प्रसिद्ध झाली आहे. आगामी काळात त्या मास्कला पेटंट (Patent) मिळेल, असा विश्‍वास भौतिकशास्त्र संकुलाचे संचालक प्रा. डॉ. विकास पाटील यांनी व्यक्‍त केला. (punyashlok ahilyadevi holkar solapur university has developed a mask for protection from corona)

कोरोनापासून नागरिकांना सुरक्षित राहता यावे, या हेतूने पुण्यश्‍लोक अहिल्यादेवी होळकर सोलापूर विद्यापीठातील भौतिकशास्त्र संकुलाचे संचालक प्रा. डॉ. पाटील व त्यांच्या संशोधक सहकाऱ्यांनी अँटीमायक्रोबायोल नॅनो पार्टिकल संशोधन प्रयोगशाळेत विशेष मास्क तयार केला. त्याला 'अँटीमायक्रोबायोल नॅनो पार्टिकल बेस्ड फेस मास्क असे नाव देऊन प्रायोगिक तत्त्वावर एक हजार मास्कची निर्मिती केली. त्याचा परिणाम जाणून घेण्यासाठी ते मास्क शहर-ग्रामीणमधील विविध रूग्णालये, डॉक्‍टर, लोकप्रतिनिधी, सामाजिक संस्थांच्या पदाधिकाऱ्यांना वाटले. तसेच आयसीएमआर (नवी दिल्ली) आणि एनआयव्ही (पुणे व मुंबई) यांनाही पाठविण्यात आले.

मास्कच्या पेटंटसाठी भारत सरकारच्या पेटंट कार्यालयासही काही मास्क दिले. त्यासंदर्भात पेटंट कार्यालयाकडून या 'स्पेशल मास्क'चे पेटेंट नियतकालिकेत प्रसिद्ध करण्यात आले. तत्पूर्वी, केंद्रीय वाहतूकमंत्री नितिन गडकरी, राज्यपाल भगतसिंह कोश्‍यारी, उच्च व तंत्रशिक्षण मंत्री उदय सामंत यांनाही मास्क दिले होते. मास्कच्या निर्मितीसाठी योगेश जाधव, युवराज नवले, इनक्‍युबेशन सेंटरमधील प्रियांका चिप्पा यांचेही सहकार्य लाभले. कुलगुरू डॉ. मृणालिनी फडणवीस, प्र-कुलगुरू डॉ. देबेंद्रनाथ मिश्रा यांच्या मार्गदर्शनाखाली मास्कची निर्मिती केल्याचेही डॉ. पाटील यांनी यावेळी आवर्जुन सांगितले.

मास्कची वैशिष्ट्ये...

- नॅनो टेक्‍नॉलॉजीचा वापर करून दोन लेयर असलेला विशेष मास्क

- नॅनोपार्टिकलचे साईज 20 ते 30 नॅनोमीटर असून अनेकवेळा धुतल्यानंतरही वापरता येतो

- मटेरियल कॉटन फॅब्रिक्‍सचे असल्याने श्वास घ्यायला अडचण होत नाही तर जिना चढताना धाप लागत नाही

- आकर्षक रंगसंगतीचा वापर करून इको फ्रेंडली व ग्रीन केमिस्ट्रीचा वापर करून तयार केला आहे मास्क

- अल्पदर ना नफा ना तोटा या तत्त्वावर मास्कची झाली निर्मिती

(punyashlok ahilyadevi holkar solapur university has developed a mask for protection from corona)